Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флюоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Основные сведения
Статус
Действует
Количество страниц
26
Подробная информация
Обозначение
ISO 17331:2004
Статус
Действует
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флюоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
