ISO

ISO 17560:2002

Анализ поверхностей химический. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод профилирования по глубине для бора в кремнии

Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon

Основные сведения

Статус
Заменен
Количество страниц
16

Подробная информация

Обозначение
ISO 17560:2002
Статус
Заменен
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Анализ поверхностей химический. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод профилирования по глубине для бора в кремнии
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon
Дата отмены
10.09.2014 00:00:00
Код КС (ОКС, МКС)
71.040.40
Обозначение заменяющего
ISO 17560:2014
ТК – разработчик стандарта
TC 201/SC 6
Язык оригинала
английский
Номер издания
1
Дата опубликования
18.07.2002
Количество страниц оригинала
16