Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique
Основные сведения
Статус
Действует
Количество страниц
8
Подробная информация
Обозначение
ISO 17331:2004/Amd.1:2010
Статус
Действует
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique
