ISO

ISO 16531:2013

Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS

Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS

Основные сведения

Статус
Заменен
Количество страниц
26

Подробная информация

Обозначение
ISO 16531:2013
Статус
Заменен
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
Дата отмены
05.10.2020 01:00:00
Код КС (ОКС, МКС)
71.040.40
Обозначение заменяющего
ISO 16531:2020
ТК – разработчик стандарта
TC 201/SC 4
Язык оригинала
английский
Номер издания
1
Дата опубликования
16.05.2013
Количество страниц оригинала
26
Код цены
C