Поверхностный химический анализ. Профилирование по глубине. Метод определения скорости напыления с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии при профилировании по глубине распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Основные сведения
Статус
Заменен
Количество страниц
24
Подробная информация
Обозначение
ISO 17109:2015
Статус
Заменен
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Поверхностный химический анализ. Профилирование по глубине. Метод определения скорости напыления с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии при профилировании по глубине распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
