Основные сведения
- Статус
- Действует
- Количество страниц
- 36
Область применения
Настоящий документ устанавливает метод измерения кристаллического качества монокристаллической тонкой пленки (круглой пластины, вафли), используемой в методе XRD с параллельным рентгеновским пучком. Этот документ применим к любым монокристаллическим тонким пленкам (вафлям) в виде объемной структуры или структуры эпитаксиальных слоев.
Подробная информация
- Обозначение
- ISO 22278:2020
- Обозначение
- ISO 22278:2020
- Обозначение
- ISO 22278:2020
- Статус
- Действует
- Статус
- Действует
- Статус
- Действует
- Вид стандарта
- ST
- Вид стандарта
- ST
- Вид стандарта
- ST
- Заглавие на русском языке
- Керамика тонкая (высококачественная керамика, высококачественная техническая керамика). Определение кристаллического качества монокристаллических тонких пленок (подложек) методом дифракционного рентгеновского анализа (XRD) с параллельным рентгеновским лучом
- Заглавие на русском языке
- Керамика тонкая (высококачественная керамика, высококачественная техническая керамика). Определение кристаллического качества монокристаллических тонких пленок (подложек) методом дифракционного рентгеновского анализа (XRD) с параллельным рентгеновским лучом
- Заглавие на русском языке
- Керамика тонкая (высококачественная керамика, высококачественная техническая керамика). Определение кристаллического качества монокристаллических тонких пленок (подложек) методом дифракционного рентгеновского анализа (XRD) с параллельным рентгеновским лучом
- Заглавие на английском языке
- Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) Test method for crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using XRD method with parallel X-ray beam
- Заглавие на английском языке
- Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) Test method for crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using XRD method with parallel X-ray beam
- Заглавие на английском языке
- Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) Test method for crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using XRD method with parallel X-ray beam
- Код КС (ОКС, МКС)
- 81.060.30
- Код КС (ОКС, МКС)
- 81.060.30
- Код КС (ОКС, МКС)
- 81.060.30
- ТК – разработчик стандарта
- TC 206
- ТК – разработчик стандарта
- TC 206
- ТК – разработчик стандарта
- TC 206
- Язык оригинала
- английский
- Язык оригинала
- английский
- Язык оригинала
- английский
- Номер издания
- 1
- Номер издания
- 1
- Номер издания
- 1
- Дата опубликования
- 24.08.2020
- Дата опубликования
- 24.08.2020
- Дата опубликования
- 24.08.2020
- Количество страниц оригинала
- 36
- Количество страниц оригинала
- 36
- Количество страниц оригинала
- 36
- Аннотация (область применения)
- Настоящий документ устанавливает метод измерения кристаллического качества монокристаллической тонкой пленки (круглой пластины, вафли), используемой в методе XRD с параллельным рентгеновским пучком. Этот документ применим к любым монокристаллическим тонким пленкам (вафлям) в виде объемной структуры или структуры эпитаксиальных слоев.
- Аннотация (область применения)
- Настоящий документ устанавливает метод измерения кристаллического качества монокристаллической тонкой пленки (круглой пластины, вафли), используемой в методе XRD с параллельным рентгеновским пучком. Этот документ применим к любым монокристаллическим тонким пленкам (вафлям) в виде объемной структуры или структуры эпитаксиальных слоев.
- Аннотация (область применения)
- Настоящий документ устанавливает метод измерения кристаллического качества монокристаллической тонкой пленки (круглой пластины, вафли), используемой в методе XRD с параллельным рентгеновским пучком. Этот документ применим к любым монокристаллическим тонким пленкам (вафлям) в виде объемной структуры или структуры эпитаксиальных слоев.
- Количество страниц перевода
- 35
- Количество страниц перевода
- 35
- Количество страниц перевода
- 35
- Код цены
- E
- Код цены
- E
- Код цены
- E