Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
Surface chemical analysis Depth profiling Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Основные сведения
Статус
Действует
Количество страниц
28
Подробная информация
Обозначение
ISO 17109:2022
Статус
Действует
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis Depth profiling Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
