ISO

ISO 23170:2022

Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Неразрушающее профилирование глубины наноразмерных тонких пленок оксида тяжелого металла на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии

Surface chemical analysis Depth profiling Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

Основные сведения

Статус
Действует
Количество страниц
36

Подробная информация

Обозначение
ISO 23170:2022
Статус
Действует
Вид стандарта
ST
Заглавие на русском языке
Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Неразрушающее профилирование глубины наноразмерных тонких пленок оксида тяжелого металла на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии
Заглавие на английском языке
Surface chemical analysis Depth profiling Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Код КС (ОКС, МКС)
71.040.40
ТК – разработчик стандарта
TC 201/SC 4
Язык оригинала
английский
Номер издания
1
Дата опубликования
15.06.2022
Количество страниц оригинала
36
Код цены
E